1. 招標(biāo)條件 本招標(biāo)項(xiàng)目磁控濺射金屬鍍膜機(jī)招標(biāo)人為中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十一研究所，招標(biāo)項(xiàng)目資金來(lái)自自有資金，出資比例為100%。該項(xiàng)目已具備招標(biāo)條件，現(xiàn)對(duì)磁控濺射金屬鍍膜機(jī)進(jìn)行國(guó)內(nèi)公開(kāi)招標(biāo)。
2. 項(xiàng)目概況與招標(biāo)范圍 2.1 招標(biāo)編號(hào)：ZKX20250452A003
2.2 招標(biāo)項(xiàng)目名稱：磁控濺射金屬鍍膜機(jī)。
2.3 數(shù)量：1臺(tái)。
2.4主要組成：
磁控濺射金屬鍍膜機(jī)主要由真空室、真空系統(tǒng)、工件架及工件盤、濺射源系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)、控制及監(jiān)控系統(tǒng)、氣路傳輸系統(tǒng)等構(gòu)成。
2.5 交貨地點(diǎn)：甲方營(yíng)業(yè)場(chǎng)所所在地。
2.6 交貨期： 合同簽訂后5個(gè)月內(nèi)。
3.投標(biāo)人資格要求 3.1投標(biāo)人須具有獨(dú)立承擔(dān)民事責(zé)任能力的在中華人民共和國(guó)境內(nèi)注冊(cè)的法人或其他組織，具備有效的營(yíng)業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書或其它營(yíng)業(yè)登記證書。
3.2投標(biāo)人須提供2023年（如投標(biāo)人成立年限少于要求的年限需提供成立以來(lái)的）經(jīng)第三方審計(jì)的財(cái)務(wù)報(bào)表復(fù)印件（財(cái)務(wù)報(bào)表應(yīng)至少包括審計(jì)報(bào)告正文、資產(chǎn)負(fù)債表、現(xiàn)金流量表、利潤(rùn)表。若投標(biāo)人為事業(yè)單位，可提供內(nèi)審財(cái)務(wù)報(bào)告），或開(kāi)標(biāo)前3個(gè)月內(nèi)銀行出具的資信證明原件或復(fù)印件（注明復(fù)印件無(wú)效的必須提供原件）。